Расчет механических потерь в стеклообразном диоксиде кремния по результатам атомистического моделирования
DOI:
https://doi.org/10.26089/NumMet.v18r432Ключевые слова:
Keywords: mechanical losses, molecular dynamics, glassy silicon dioxideАннотация
Предложены методы расчета потерь механической энергии в твердых материалах на основе моделирования методом молекулярной динамики внешнего воздействия и последующей релаксации системы. Рассчитывается обратная добротность и фурье-образ обратной добротности на частоте, равной обратному времени релаксации системы. Для обратной добротности получена оценка сверху, равная 10-4, что находится в интервале экспериментальных значений; для фурье-образа обратной добротности получена оценка сверху, равная 10-2.
Библиографические ссылки
- G. Harry, T. P. Bodiya, and R. DeSalvo (Eds.), Optical Coatings and Thermal Noise in Precision Measurement (Cambridge University Press, Cambridge, 2012).
- W. A. Phillips, “Tunneling States and the Low-Temperature Thermal Expansion of Glasses,” J. Low Temp. Phys. 11 (5-6), 757-763 (1973).
- P. W. Anderson, B. I. Halperin, and C. M. Varma, “Anomalous Low-Temperature Thermal Properties of Glasses and Spin Glasses,” Phil. Mag. 25 (1), 1-9 (1972).
- R. Hamdan, J. P. Trinastic, and H. P. Cheng, “Molecular Dynamics Study of the Mechanical Loss in Amorphous Pure and Doped Silica,” J. Chem. Phys. 141 (2014). doi: 10.1063/1.4890958
- J. P. Trinastic, R. Hamdan, C. Billman, and H.-P. Cheng, “Molecular Dynamics Modeling of Mechanical Loss in Amorphous Tantala and Titania-Doped Tantala,” Phys. Rev. B 93 (2016).
doi: 10.1103/PhysRevB.93.014105 - F. V. Grigoriev, A. V. Sulimov, I. V. Kochikov, et al., “High-Performance Atomistic Modeling of Optical Thin Films Deposited by Energetic Processes,” Int. J. High Perf. Comp. Appl. 29} (2), 184-192 (2015).
- F. V. Grigoriev, “Force Fields for Molecular Dynamics Simulation of the Deposition of a Silicon Dioxide Film,” Vestn. Mosk. Univ., Ser. 3: Fiz., No. 6, 93-97 (2015) [Moscow Univ. Phys. Bull. 70 (6), 521-526 (2015)].
- F. V. Grigoriev, A. V. Sulimov, E. V. Katkova, et al., “Full-Atomistic Nanoscale Modeling of the Ion Beam Sputtering Deposition of SiO{}_2 Thin Films,” J. Non-Cr. Sol. 448, 1-5 (2016).
- F. V. Grigoriev, E. V. Katkova, A. V. Sulimov, et al., “Annealing of Deposited SiO_2 Thin Films: Full-Atomistic Simulation Results,” Opt. Mat. Exp. 6 (12), 3960-3966 (2016).
- H. J. C. Berendsen, J. P. M. Postma, W. F. van Gunsteren, et al., “Molecular Dynamics with Coupling to an External Bath,” J. Chem. Phys. 81 (8), 3684-3690 (1984).
- V. Sadovnichy, A. Tikhonravov, Vl. Voevodin, and V. Opanasenko, “’Lomonosov’: Supercomputing at Moscow State University,” in Contemporary High Performance Computing: From Petascale toward Exascale (CRC Press, Boca Raton, 2013), pp. 283-307.
- M. S. Blanter, I. S. Golovin, H. Neuh854user, and H.-R. Sinning, Internal Friction in Metallic Materials: A Handbook (Springer, Berlin, 2007).
Загрузки
Опубликован
2017-09-20
Как цитировать
Григорьев Ф.В., Сулимов В.Б., Тихонравов А.В. Расчет механических потерь в стеклообразном диоксиде кремния по результатам атомистического моделирования // Вычислительные методы и программирование. 2017. 18. 381-386. doi 10.26089/NumMet.v18r432
Выпуск
Раздел
Раздел 1. Вычислительные методы и приложения
