https://doi.org/10.26089/NumMet.v27r332
Монохроматический контроль производства оптических покрытий с использованием нескольких контрольных чипов
Ключевые слова:
Аннотация
Рассматриваются наиболее важные вычислительные аспекты использования нескольких контрольных чипов при производстве оптических покрытий с монохроматическим контролем процесса напыления. В качестве примера исследуется применение монохроматического контроля при изготовлении сложного узкополосного фильтра. Обсуждаются выбор количества контрольных чипов, распределение слоев фильтра по группам для контроля различными чипами, а также выбор контрольных длин волн для каждого чипа. Результаты модельных вычислительных экспериментов по производству фильтров демонстрируют практические преимущества предлагаемого подхода, в частности, возможность использования механизма самокомпенсации ошибок при монохроматическом контроле с оперативной коррекцией уровня сигнала в конце напыления слоя.
Опубликован
Выпуск
Раздел
Библиографические ссылки
- H. A. Macleod, “Monitoring of optical coatings,” Applied Optics 20 (1), 82–89 (1981).
doi 10.1364/AO.20.000082 - F. Zhao, “Monitoring of periodic multilayers by the level method,” Applied Optics 24 (20), 3339–3342 (1985).
doi 10.1364/AO.24.003339 - A. Tikhonravov, Optical Coatings: Design, Characterization, Monitoring (SPIE Press, Bellingham, WA, United States, 2024).
doi 10.1117/3.100017 - A. Zoeller, M. Boss, R. Goetzelmann, et al., “Substantial progress in optical monitoring by intermittent measurement technique,” in Proc. SPIE, Jena, Germany, October 6, 2005 (Advances in Optical Thin Films II. – SPIE, Vol. 5963, 2005), Article Number 59630D.
doi 10.1117/12.624865 - A. Zoeller, M. Boos, H. Hagedorn, and B. Romanov, “Computer simulation of coating processes with monochromatic monitoring,” in Proc. SPIE, Glasgow, Scotland, United Kingdom, September 25, 2008 (Advances in Optical Thin Films III. – SPIE, Vol. 7101, 2008), Article Number 71010G.
doi 10.1117/12.797612 - A. Zoeller, H. Hagedorn, W. Weinrich, and E. Wirth, “Testglass changer for direct optical monitoring,” in Proc. SPIE, Marseille, France, September 5–8, 2011 (Advances in Optical Thin Films IV. – SPIE, Vol. 8168, 2011), Article Number 81681J.
doi 10.1117/12.896859 - J. Zideluns, F. Lemarchand, D. Arhilger, et al., “Automated optical monitoring wavelength selection for thin-film filters,” Optics Express 29 (21), 33398–33413 (2021).
doi 10.1364/OE.439033 - P. Bousquet, A. Fornier, R. Kowalczyk, et al., “Optical filters: Monitoring process allowing the auto-correction of thickness errors,” Thin Solid Films 13 (2), 285–290 (1972).
doi 10.1016/0040-6090(72)90297-0 - H. A. Macleod, “Turning Value Monitoring of Narrow-band All-dielectric Thin-film Optical Filters,” Optica Acta 19 (1), 1–28 (1972).
doi 10.1080/713818494 - A. V. Tikhonravov, S. A. Sharapova, and S. K. Kirpichenko, “A new computational method for monochromatic monitoring of optical coatings production,” Numerical Methods and Programming (Vychislitel’nye Metody i Programmirovanie) 27 (2), 208–215 (2026).
doi 10.26089/NumMet.v27r214 - A. Tikhonravov, A. Lagutina, Iu. Lagutin, and A. Yagola, “Pre-production estimates for the choice of strategy and algorithm for monochromatic monitoring of the production of optical coatings,” Applied Optics 62 (18), 4906–4912 (2023).
doi 10.1364/AO.493497 - A. Tikhonravov, I. Kochikov, S. Sharapova, and A. Yagola, “Optical monitoring of coating production: correlation of errors and errors self-compensation,” in Proc. SPIE, Online, Spain, September 12, 2021 (Advances in Optical Thin Films VII.– SPIE, Vol. 11872, 2021), Article Number 118720Q.
doi 10.1117/12.2597765
Лицензия
Copyright (c) 2026 А. В. Тихонравов, С. К. Кирпиченко, С. А. Шарапова
Это произведение доступно по лицензии Creative Commons «Attribution» («Атрибуция») 4.0 Всемирная.
