DOI: https://doi.org/10.26089/NumMet.v18r432

Расчет механических потерь в стеклообразном диоксиде кремния по результатам атомистического моделирования

Авторы

  • Ф.В. Григорьев
  • В.Б. Сулимов
  • А.В. Тихонравов

Ключевые слова:

механические потери
молекулярная динамика
стеклообразный диоксид кремния

Аннотация

Предложены методы расчета потерь механической энергии в твердых материалах на основе моделирования методом молекулярной динамики внешнего воздействия и последующей релаксации системы. Рассчитывается обратная добротность и фурье-образ обратной добротности на частоте, равной обратному времени релаксации системы. Для обратной добротности получена оценка сверху, равная 10-4, что находится в интервале экспериментальных значений; для фурье-образа обратной добротности получена оценка сверху, равная 10-2.


Загрузки

Опубликован

2017-09-20

Выпуск

Раздел

Раздел 1. Вычислительные методы и приложения

Авторы

Ф.В. Григорьев

Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова
Ленинские горы, 119991, Москва
• ведущий научный сотрудник

В.Б. Сулимов

Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова
Ленинские горы, 119991, Москва
• заведующий лабораторией

А.В. Тихонравов


Библиографические ссылки

  1. G. Harry, T. P. Bodiya, and R. DeSalvo (Eds.), Optical Coatings and Thermal Noise in Precision Measurement (Cambridge University Press, Cambridge, 2012).
  2. W. A. Phillips, “Tunneling States and the Low-Temperature Thermal Expansion of Glasses,” J. Low Temp. Phys. 11 (5-6), 757-763 (1973).
  3. P. W. Anderson, B. I. Halperin, and C. M. Varma, “Anomalous Low-Temperature Thermal Properties of Glasses and Spin Glasses,” Phil. Mag. 25 (1), 1-9 (1972).
  4. R. Hamdan, J. P. Trinastic, and H. P. Cheng, “Molecular Dynamics Study of the Mechanical Loss in Amorphous Pure and Doped Silica,” J. Chem. Phys. 141 (2014).
    doi 10.1063/1.4890958
  5. J. P. Trinastic, R. Hamdan, C. Billman, and H.-P. Cheng, “Molecular Dynamics Modeling of Mechanical Loss in Amorphous Tantala and Titania-Doped Tantala,” Phys. Rev. B 93 (2016).
    doi 10.1103/PhysRevB.93.014105
  6. F. V. Grigoriev, A. V. Sulimov, I. V. Kochikov, et al., “High-Performance Atomistic Modeling of Optical Thin Films Deposited by Energetic Processes,” Int. J. High Perf. Comp. Appl. 29} (2), 184-192 (2015).
  7. F. V. Grigoriev, “Force Fields for Molecular Dynamics Simulation of the Deposition of a Silicon Dioxide Film,” Vestn. Mosk. Univ., Ser. 3: Fiz., No. 6, 93-97 (2015) [Moscow Univ. Phys. Bull. 70 (6), 521-526 (2015)].
  8. F. V. Grigoriev, A. V. Sulimov, E. V. Katkova, et al., “Full-Atomistic Nanoscale Modeling of the Ion Beam Sputtering Deposition of SiO{}_2 Thin Films,” J. Non-Cr. Sol. 448, 1-5 (2016).
  9. F. V. Grigoriev, E. V. Katkova, A. V. Sulimov, et al., “Annealing of Deposited SiO_2 Thin Films: Full-Atomistic Simulation Results,” Opt. Mat. Exp. 6 (12), 3960-3966 (2016).
  10. H. J. C. Berendsen, J. P. M. Postma, W. F. van Gunsteren, et al., “Molecular Dynamics with Coupling to an External Bath,” J. Chem. Phys. 81 (8), 3684-3690 (1984).
  11. V. Sadovnichy, A. Tikhonravov, Vl. Voevodin, and V. Opanasenko, “’Lomonosov’: Supercomputing at Moscow State University,” in Contemporary High Performance Computing: From Petascale toward Exascale (CRC Press, Boca Raton, 2013), pp. 283-307.
  12. M. S. Blanter, I. S. Golovin, H. Neuh854user, and H.-R. Sinning, Internal Friction in Metallic Materials: A Handbook (Springer, Berlin, 2007).